低溫恒溫水槽是采用微處理技術(shù)結(jié)合PID 控制方式形成的高精度恒溫器與壓縮機(jī)制冷系統(tǒng),結(jié)合而成的低溫恒溫水槽,而內(nèi)置的制冷和加熱系統(tǒng)可滿足用戶的不同需求。本機(jī)采用微電腦控溫,控溫精度高,在±0.1℃之內(nèi),這是一般控溫系統(tǒng)無法達(dá)到的指標(biāo)。由于增加了內(nèi)置循環(huán)系統(tǒng),使箱內(nèi)的液體溫度更趨均勻,性能穩(wěn)定可靠、操作簡(jiǎn)便。工作區(qū)可采用 500ml的燒杯,也可以根據(jù)需要使用更大的樣品容器,也可直接在水浴上測(cè)定粘度。
高精度低溫恒溫水槽和普通恒溫槽的區(qū)別在于對(duì)應(yīng)的型號(hào)尺寸沒有改變,但是溫度感應(yīng)器和顯示器精度均增高了。當(dāng)?shù)蜏睾銣厮奂訜釡囟瘸^100度時(shí),使用的介質(zhì)是甲基硅油,zui高溫可達(dá)到300度。
低溫恒溫水槽中換熱設(shè)備設(shè)計(jì)的主要是根據(jù)設(shè)計(jì)的任務(wù)結(jié)合各類低溫恒溫水槽換熱設(shè)備的結(jié)構(gòu)和特點(diǎn)。選定設(shè)備形式必要時(shí)可同時(shí)選取幾種形式進(jìn)行初步結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),通過技術(shù)經(jīng)濟(jì)等綜合比較確定zui終形式。也可根據(jù)選定的初步結(jié)構(gòu)形式以及其他參數(shù),低溫恒溫水槽進(jìn)行傳熱計(jì)算、阻力計(jì)算以及強(qiáng)度計(jì)算。計(jì)算結(jié)果應(yīng)使結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的傳熱面積與傳熱計(jì)算的傳熱面積相比有10%~20%的裕量,而計(jì)算壓陣小于允許壓降。在進(jìn)行強(qiáng)度計(jì)算時(shí),要特別注意所用材料的溫度特性。許多材料的特性在低溫時(shí)與常溫時(shí)相差很大,此外設(shè)計(jì)時(shí)還應(yīng)遵循壓力容器的設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)范。校核計(jì)算。還需進(jìn)行精心的機(jī)械設(shè)計(jì),低溫恒溫水槽包括零部件尺寸的確定和強(qiáng)度鉸核、溫差腕力計(jì)算、熱補(bǔ)償力案確定等。
低溫恒溫水槽中換熱設(shè)備設(shè)計(jì)的前期準(zhǔn)備需要全面準(zhǔn)確地理解設(shè)低溫恒溫水槽計(jì)任務(wù)書對(duì)設(shè)計(jì)的要求,掌握工藝生產(chǎn)的某些條件如工作溫度、允許溫差壓力、允許壓降、工作流體的物理和化學(xué)性質(zhì)等。除此之外還應(yīng)包括設(shè)備熱負(fù)荷、低溫恒溫水槽可以提供的材料、加工條件等方面。這些資料是選型的依據(jù)、同時(shí)也是熱力計(jì)算的前提。對(duì)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻,單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻,激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。其他產(chǎn)業(yè)用機(jī)器發(fā)熱部分的冷卻,等離子熔接、自動(dòng)包裝機(jī)、模具冷卻、洗凈機(jī)械、鍍金槽、精密研磨機(jī)、射出成型機(jī)、樹脂成型機(jī)的成型部分等。
低溫恒溫水槽廣泛應(yīng)用于石油、華工、冶金、醫(yī)藥、生化、物性測(cè)試及化學(xué)分析等研究部門、高等院校、工廠實(shí)驗(yàn)室及計(jì)量質(zhì)檢部門,為用戶工作提供一個(gè)冷熱受控,溫度均勻的場(chǎng)源。